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超高分辨場發射掃描電子金屬顯微鏡

更新時間:2021-01-11點擊次數:1971

超高分辨場發射掃描電子金屬顯微鏡現有機型SU8240,SU8230,SU8220及SU8010重新整合,衍生而成Regulus8240、Regulus8230、Regulus8220、Regulus8100。

超高分辨場發射掃描電子金屬顯微鏡"Regulus系列"繼承了現有機型的觀察和分析性能,配備SU8200系列的低噪音冷場發射電子槍*1,可以獲得高穩定的束流。

超高分辨場發射掃描電子金屬顯微鏡通過電子光學系統,Regulus8240/8230/8220在1 kV條件下分辨率提高到0.7 nm,Regulus8100的分辨率提高到0.8 nm。

此外,為充分發揮超高分辨的能力,放大倍率也從過去的100萬倍提升到200萬倍*1。
Regulus8240/8230/8220/8100還*了用戶支持功能,通過此功能用戶更容易理解各種復雜信號的檢測原理,幫助用戶充分發揮儀器的性能。

 

  • 沿用"SU8200系列"的冷場發射電子槍*2

  • 采用電子束在Flashing后出現的高亮度穩定區域作為穩定觀察的區間,使得低加速電壓條件下兼備高分辨觀察和分析的性能

  • 采用污染小、高真空樣品倉

  • 運用能量過濾器(選配),可觀察到多種成分對比度*2

極低著陸電壓下高分辨觀察

極低著陸電壓下高分辨觀察
樣品:金顆粒
著陸電壓:10 V

超高分辨觀察

超高分辨觀察
樣品:Pt催化劑
加速電壓:30 kV

低加速電壓下高分辨EDX分析

低加速電壓下高分辨EDX分析
樣品:Sn球
著陸電壓:1.5 kV

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